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石墨盤專用真空烤盤爐

 一.產品介紹

真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。

二、設計特點

1、后門設計熱風電機

2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向

3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的

三、技術指標

使用溫度

1450℃

最高溫度

1500℃

絕熱材料

石墨纖維毯、石墨紙

馬弗材料

SUS304

加熱元件

石墨加熱棒

冷卻方式

氣冷+循環風冷降溫

控溫穩定度

±2℃,具有PID參數自整定功能

爐膛溫度均勻度

±5℃(恒溫1550℃)

控溫熱偶

Wre5

升溫速率

15℃/min(空載)

控溫點數

1點

降溫速率

1450℃至80℃,240分鐘

監測點數

1點

極限真空

10-3torr級

氣氛

可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≧99.999%

抽氣速率

空載下,30min達到10-2torr

報警保護

超溫、斷偶、停氣等聲光報警保護

設備顏色

電腦駝灰色

電源

容量大于160KVA,3相5線,220/380VAC,50Hz

參考型號

MOLKP-518W710×H710×D1000mm)

MOLKP-1000(W1000×H1000×D1000mm)

MOLKP-1200(W1000×H1000×D1200mm)

 


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